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真空用高精度ホットプレート
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CVD
ETCHING
ASHING
などに最適
特徴
加熱対象
フレキ
シブル
面状
真空
対応
配管・
容器
金属
液体
気体
×
×
○
○
○
○
○
面内の温度分布を高精度に制御
形状、サイズなどご相談に応じます
MAX450℃まで対応(Alプレート)
分割設計によりFPD G8サイズも高精度分布を実現
ヒータ単体
窒化アルミ(AIN)ヒータ
シリコンラバーヒータ
マイカヒータ
ポリイミドヒータ
カートリッジヒータ
マントルヒータ
ユニット製品
常圧用高精度ホットプレート
真空用高精度ホットプレート
ヒータユニット製品
分散型温度制御ユニット
ガス関連
ヒートエクスチェンジャー
ガス配管ユニット